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间歇式实验室涂布机
序号
项目
技术参数
备注
1.
适合体系
磷酸铁锂、 钴酸锂、 锰酸锂等体系电池正、负极片涂布工艺
2.
运行基材厚度
铝箔 ( al): 11~30um 铜箔(cu): 9~30um
3.
辊面设计宽度
300 mm
4.
涂布精度
±3um ( 异常区域除外)
5.
保证涂布宽度
260mm 以内
6.
适合浆料黏度
2000~12000 cps
7.
单面涂布干厚度范围
50-150μm
8.
溶剂特性
油性溶剂 nmp(s.g=1.033,b.p=204℃)
水 性 溶 剂h2o/nmp(s.g=1.000,b.p=100℃)
9.
适合固含量
正极 s. c. 60%±5%
负极 s. c. 50%±5%(pvdf 体系)s. c. 50%±5%( sbr 体系)
10.
比重
正极 1.5—2.59/cm2负极 1~1.89/cm2
11.
涂布方式
连续转移涂布
12.
基材运行方向
正向涂布, 基材正、 反向空箔运转